湿电子化学品，又称超净高纯试剂或工艺化学品，是超大规模集成电路、分立器件、液晶面板显示器、太阳能电池、LED等制作过程中，不可缺少的关键性基础化工材料之一。包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等。

目前我国半导体国产化，最重要的6个方向之一，就有湿电子化学品。

与欧美日等头部企业相比，我国湿电子化学品行业起步较晚，国内较多企业主要集中于太阳能电池、分立器件等低端市场，在高代线面板及半导体为代表的高端湿电子化学应用领域，外资企业占据大部分市场，所以国产化势在必行。

湿电子化学品特点和分类

湿电子化学品的生产工艺主要采用物理的提纯技术及混配技术，将工业级的化工原料提纯为超净高纯化学试剂，并按照特定的配方混配为具有特定功能性的化学试剂。

湿化学品更新换代快，洁净度要求极高，具有产品规格多、单个品种用量少、质控要求极高、等特点。湿电子化学品多为易燃、易爆、强腐蚀的危险品，对包装、运输的要求极高。

按照组成成分和应用工艺不同，湿电子化学品可分为通用性和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品以超净高纯试剂为主，（酸类、碱类、溶剂类，如硫酸、氢氟酸、双氧水、氨水、硝酸、异丙醇等）；功能性湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品，（配方产品，如显影液、剥 离液、清洗液、刻蚀液等）。整体来看，通用湿电子化学品是我国湿电子化学品市场主流产品，占比达到88%以上。

湿电子化学品位于电子信息产业偏中上游的材料领域，其上游是基础化工产品，下游是电子信息产业（信息通讯、消费电子、家用电器、汽车电子、LED、平板显示、太阳能电池、军工等领域）。

作为精细化工和电子信息行业交叉的领域，湿电子化学品行业特色充分融入了两大行业的自身特点，是化工领域最具发展前景的领域之一。

发展历程

初期发展阶段：1975 – 2005年，国内湿电子化学品企业的规模和技术水平都较低，与国际的湿电子化学品大型企业相差甚远，部分民营企业开始纷纷加入湿电子化学品行业

生产转向规模化发展阶段：2006 – 2009年，部分技术力量薄弱、生产经营不规范的企业退出了化学试剂行业，而技术力量突出、生产经营规范、品质较好的优秀企业获得了市场地位，行业集中度有所提高

大规模快速发展阶段：2010年至今，湿电子化学品的生产、检测、包装和技术服务水平开始攀升到一个新阶段，装备及技术实力得到大幅度的提升

应用领域

湿电子化学品主要应用在三大领域。

1.半导体

湿电子化学品在半导体制造领域的应用，主要在集成电路和分立器件制造用晶圆的加工方面，还包括晶圆加工前的硅片加工以及后端的封装测试环节，主要用于清洗和蚀刻。

我国半导体市场持续快速增长，2020年国内半导体用湿电子化学品需求量45万吨。随着我国经济结构调整，新兴产业，计算机、消费电子、通信等产业规模将持续增长，大大拉动了对上游集成电路需求。

2.平板显示

湿电子化学品用于面板制造的显影、蚀刻、清洗等工序，2020年国内平板显示用湿电子化学品需求量69万吨。中国大陆面板产业的迅速崛起，推动国内湿电子化学品需求增长提速。

3.太阳能电池

光伏平价上网，打开了湿电子化学品长期空间。湿电子化学品主要应用太阳能电池片制造的制绒、清洗及蚀刻。2020年国内太阳能电池用湿电子化学品需求量41万吨。氢氟酸、硝酸、氢氧化钾是太阳能电池片制造中用量最多的品种。

湿电子化学品市场规模

全球湿电子化学品市场由美欧向亚太过渡，欧美、日本企业份额逐年降低。根据中国电子材料行业协会数据，2018年全球半导体、平板显示、太阳能电池三大应用市场使用湿电子化学品总量达到307万吨，全球市场规模52.65亿美元。2019年，全球湿电子化学品行业市场规模达到55亿美元。

随着产量与需求量的增加，我国湿电子化学品市场规模也逐年上升，从2011年的27.82亿元增长至2018年的87.89亿元，复合年增长率达到17.86%；到2019年我国湿电子化学品市场规模约达94.17亿元，同比增长7.15%；2020年我国湿电子化学品市场规模达到100.62亿元左右，同比增长6.85%。

随着下游应用领域的蓬勃发展，我国湿电子化学品产品需求量将持续走高，行业发展势头向好。预计到2021年中国湿电子化学品市场规模将达到117.46亿元；按10.%左右的年均增速来测算，初步估计到2027年中国湿电子化学品市场规模将突破200亿元，达到210.38亿元左右。

三大应用需求

1、太阳能电池

太阳能电池主要是一个大面积的半导体光电二极管，是一种由于光生伏特效应而将 太阳光能直接转化为电能的电子元器件，能利用光电材料吸收光能后发生光电效应，将 光能转换为电能，因此太阳能发电又称为光伏发电。光伏太阳能电池包括单晶硅、多晶 硅、薄膜太阳能电池三种。

晶体硅太阳能电池：硅系列太阳能电池中，单晶硅太阳能电池转换效率最高，技术 也最为成熟，一般都采用表面织构化、发射区钝化、分区掺杂等技术，开发的电池主要 有平面单晶硅电池和刻槽埋栅电极单晶硅电池。单晶硅太阳能电池在大规模应用和工业 生产中占据主导地位。

多晶硅薄膜太阳电池是将多晶硅薄膜生长在低成本的衬底材料上，用相对薄的晶体 硅层作为太阳能电池的激活层，不仅保持了晶体硅太阳能电池的高性能和稳定性，而且 材料的用量大幅度下降，明显地降低了电池成本。

晶体硅太阳能电池制造的常规工艺主要包括:硅片清洗、绒面制备、扩散制结、等离 子周边刻蚀、去磷硅玻璃、PECVD 减反射膜制备、电极印刷及烘干、烧结、Laser 和分 选测试等。

薄膜太阳能电池：薄膜太阳能电池指用单质元素薄膜、无机化合物薄膜或者有机材 料薄膜等制作的太阳能电池。通常其厚度约为 1-2μm。这些薄膜通常用化学气相沉积、 真空蒸镀、辉光放电、溅射等方法制得。薄膜太阳能电池具有轻质、耐用、简单等优点。 根据所用半导体的类型，薄膜太阳能电池主要有以下三类：非晶硅、碲化镉和铜铟镓硒。

非晶硅薄膜电池的生产过程由清洗透明导电玻璃(TCO)、第一次激光刻划、等离子增 强化学气相沉积(PECVD)、第二次激光刻划、磁控溅射镀膜、封装测试、热老化等步骤 组成。

一般来说太阳能电池制作包括清洗、表面腐蚀、制绒、蚀刻、去磷硅玻璃清洗六大 工艺。

运用在太阳能电池中的湿电子化学品具有种类相对较少，但用量大的特点。湿电子 化学品主要运用于太阳能电池片制造中的清洗、腐蚀、制绒等工序中。硫酸、王水、酸 性和碱性过氧化氢溶液等是光伏太阳能制造中的“清洗剂”。硅片的洁净度和表面状态 对光电转换效率的影响很大，是生产中的重点工序，通过这些化学清洗剂可以达到去污 的目的。

一般来说，光伏太阳能电池领域只需要 SEMI 标准的 G1 级水平，是我国国产湿电子 化学品的主要市场。我国是全球最大的太阳能电池板生产国，光伏太阳能电池国产化率 达到 98%。

在“碳中和”背景下，新能源发电对传统能源发电的替代速度加快，光伏太阳能的 增量市场推动湿电子化学品需求增长。中国光伏行业预测，2021 年全球光伏将新增装机 150-170GW，2025 年新增装机 270-330GW；2021 年我国将新增 55-65GW，2025 年预计 将新增 90-110GW，未来 5 年存在翻倍增长空间。2019 年中国光伏发电渗透率不到 3%， 根据国家能源局公布的《关于 2021 年风电、光伏发电开发建设有关事项的通知（征求意 见稿）》，2021 年全国风电、光伏发电用量占全社会用电量比重将达到 11%，2025 年达 到 16.5%左右，光伏发电将凭借政策驱动及装机成本降低迎来市场高速增长。太阳能光 伏装机量的提升带动太阳能电池产量的增加，2020 年太阳能电池产量达到 15728 万千瓦， 近 5 年 CAGR 为 21.8%

2、平板显示

平板显示行业主要指的是对于平板显示器进行制造，应用于下游移动通讯、数码设 备、电脑以及电视等等。在平板显示的发展阶段中，主要技术包括液晶显示（LCD）、 等离子显示（PDP）、有机发光二极管显示（OLED）、场发射显示器（FED）。现在迅 猛发展的 TFT 液晶显示器（TFT-LCD）具有成本低、高解析度、高亮度、宽视角、能耗 低等特点，已经成为了产业中的主导产品。 TFT-LCD 面板的制作主要包括阵列制造工艺（Array）、彩膜（CF）制造工艺、液 晶盒（Cell）制造工艺以及模组（Module）制造工艺。

阵列制造工艺和彩膜制造工艺是对于品质要求最为严苛的地方，也是湿电子化学品 核心应用场景。

（1）阵列工艺，一般有导电层沉积、清洗、光刻胶覆盖、光刻曝光、显 影、烘干、蚀刻、光刻胶剥离等步骤。完成后一般重复 5 次从而在最后形成复杂的电极。 在制作流程中，主要在清洗、显影、蚀刻和光刻胶剥离的过程中需要使用湿电子化学品。

①清洗包括两个层面，一者是洗去玻璃基板制成过程中的尘粒，一般使用中性清洗剂（包 含去离子水、界面活性剂和添加剂）或是去离子水。另一者是使用碱性清洗液来去除油 污。另外一个较为细致的点是光刻胶容易在涂胶喷嘴上残留，固化后会影响涂布效果， 一般使用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）和丙二醇甲醚（PGME）的混合液来快速溶解光 刻胶。②显影工艺中一般常用四甲基氢氧化铵（TMAH）的水溶液作为显影液。③蚀刻 工艺中一般是各种酸，按照制程不同选取草酸系（草酸、添加剂、界面活性剂）、盐酸 系（HCl，FeCl3）、和混酸（H2SO4 和 HNO3）等。④剥离工艺中一般采用二甲基亚岚 （DMSO）和单乙醇胺（MEA）7:3 质量比的混合液，使得光刻胶起泡膨胀并将接触面浸 润，剥离并溶解光刻胶。未来出于环保考虑，也会使用二乙二醇单丁醚（BDG）来替代 DMSO。

（2）彩膜工艺与阵列工艺中湿电子化学品的使用类似，也包括多次的曝光和显影等 等操作。一般彩膜工艺中运用的显影液分为氢氧化钾（KOH）为代表的强碱系和碳酸氢 盐为代表的弱碱系。

面板显示主要分为 LCD 和 OLED，LCD 中剥离液、AL 刻蚀液、Cu 显影液用量最 多，合计占比超过 50%，OLED 中，剥离液和显影液用量合计占比 70%，国内布局企业 有：①江化微剥离液、蚀刻液和稀释剂纯度达 G3-G4，3.5 万吨产能在建中；②江阴润玛 蚀刻液，产能未公布。

下游市场规模，2019 年全球面板显示行业市场规模为 1000 亿美元，2016-2019 年 CAGR 为-1.2%，中国大陆市场规模约为 1740 亿元，占比 26%，2016-2019 年 CAGR 为 2%。面板显示行业市场增长有五大驱动力，“全球产 业链转移、消费升级、技术迭代、应用场景拓宽、国家政策支持”，显示面板市场规模 将进一步提升，预计 2025 年中国大陆 LCD、OLED 市场份额将提升至 69%、47%。

OLED 产能提升使得湿电子化学品用量增加，预计 2024 年显示面板用湿电子化学 品需求量翻 1.3 倍。AMOLED 是 OLED 主要品类，2019 年中国大陆 LCD、AMOLED 产 能分别为 148.8、3.2 百万平方米，DSCC 预计 2024 年将提升至 211.8、31.1 百万平方米。 根据产业信息网数据，单位面积 OLED 面板制造所需的湿电子化学品用量是 LCD 面板的 7 倍，预计 2024 年面板显示用湿电子化学品将翻 1.3 倍，达 105 万吨。

平板显示行业用湿电子化学品，在 G6 以上高世代线的国产化替代市场非常广阔。 面板用湿电子化学品纯度需要达到 G2-G3，G6 以下世代线国产化率已达到 50%以上， G6 以上高世代线国产化率很低，仅为 10%，根据 Omdia 数据，中国大陆在 2017 年首次 超过其他国家，成为G6以上高世代线产能最大的地区，2019年在全球比例已经达到53%， 预计 2024 年占据 68%份额，突破高世代线 PDF 用湿电子化学品成为国产化替代关键。

3、半导体

半导体产业分为集成电路和分立元器件两大分支。从工艺流程的角度来看主要分为 芯片设计、前段晶圆制作和后段封装测试。其中前段晶圆制作是半导体制作的核心工艺。 与平板显示制造的流程类似，整个晶圆的制造过程中需要反复通过十几次清洗、光刻、 蚀刻等工艺流程，而这些步骤都需要湿电子化学品的参与。

湿电子化学品主要用于清洗颗粒、有机残留物、金属离子、自然氧化物等污染物， 以及前道工艺中显影、光刻胶剥离，后道工艺中清洗、溅射、黄光、蚀刻等环节。

半导体对湿电子化学品纯度要求最高。随着集成电路的存储容量不断增大，电池容 量的要求也越来越高，电池上的氧化膜会变得更薄，湿电子化学品中的碱金属杂质（Na、 Ca 等）会溶解进氧化膜中，导致绝缘电压下降。若杂质附着在硅晶片的表面，会使得 P-N 结耐电压降低。此外，杂质也是电路腐蚀或漏电的重要因素。

晶圆加工中，硫酸和双氧水用量最多，两者合计占比超过 50%，国内布局两种湿电 子化学品且纯度达到 IC 级别的企业有：①晶瑞电材超净高纯双氧水，以及在建的 3 万吨 超净高纯硫酸；②兴发集团的电子级硫酸，现有 2 万吨，在建 4 万吨；③江化微硫酸在建中，与在建的氨水和盐酸产能合计 5.8 万吨，投产后纯度可达 G4-G5。

随着半导体产业向国内转移，地域性规律将克服技术差距倒逼国内发展脚步，国内 厂商发展趋势动能十足。全球第三次半导体产业链向中国大陆转移，主要涉及制造环节， 大陆晶圆产能处于高速扩张期，根据 SEMI 数据，中国大陆晶圆厂产能市场份额从 1995 年 1.7%提升至 2020 年 22.8%，成为第一大晶圆生产国。2017-2020 年全球陆续投产 62 座晶圆厂，中国大陆占 40%（26 座），部分处于产能爬坡中；2021-2022 年，中国大陆 预计将有另 8 座晶圆厂开工建设，占全球比例近 1/3，晶圆厂产能扩张和集中建设将刺激 半导体配套材料需求爆发。

大英寸晶圆产能提升使得半导体用湿电子化学品用量增加，纯度要求更高，预计 2024 年湿电子化学品需求量翻 1.5 倍。未来几年晶圆厂扩产计划以 8 寸和 12 寸为主，尤 以 12 寸居多。根据中芯国际公司公告，2024 年 12 英寸、8 英寸晶圆月产能将分别达到 273 万片/月、187 万片/月，合计占比达 61%。根据产业信息网数据，12 英寸晶圆所消耗 的湿电子化学品，是 8 英寸晶圆的 4.6 倍，6 英寸晶圆的 7.9 倍，预计 2024 年半导体用 湿电子化学品需求量将翻 1.5 倍，达到 104 万吨。而 8 英寸以上晶圆所用湿电子化学品 的国产化率仅为 10%，国产产品尚集中于低端市场，能够突破高纯度技术的企业将在未 来获得更多市场份额。

根据 SEMI 标准，IC 线宽范围越小，纯度要求越高，200nm-90nm 要求 G4 纯度湿电子化学品，90nm 以下的芯片要求使用 G5 纯度。国内达到 G5 纯度级别的 企业包括：①晶瑞电材超净高纯双氧水和超净高纯氨水，以及在建的 3 万吨超净高纯硫 酸；②多氟多电子级氢氟酸，1 万吨；③滨化股份电子级氢氟酸，0.6 万吨；④兴发集团 的电子级硫酸，现有 2 万吨，在建 4 万吨。⑤兴发集团联营企业兴力电子的电子级氢氟 酸，现有 1.5 万吨，在建 1.5 万吨；⑥上海新阳，芯片铜互连电镀液可用于 90-14nm、干 法蚀刻后清洗液可用于 28nm 以上制程，现有产能 0.56 万吨，在建 1.5 万吨；⑦中巨芯，1x 纳米制程所需电子级氢氟酸，产能未公布；⑧江化微硫酸、氨水、盐酸在建中，产能 5.8 万吨，投产后纯度可达 G4-G5。

在全球 8 英寸和 12 英寸晶圆中，90nm 以下制程 2020 年占比达 53%，预计 2025 年 份额将提升至 61%，90nm 以下制程成为全球晶圆厂生产趋势。反观中国大陆，在统计的 14 座晶圆厂中，现有产线中，200nm 以上产能约为 65.6 万片/月，200nm 以下约为 85.4 万片/月，90nm 以下约为 67.8 万片/月；在建产线，均以 90nm 以内为主，更小制程成为 扩产趋势。掌握 G4-G5 纯度工艺的企业将更有机会在国产替代进程中，更快导入国内下 游晶圆厂商，获得更多订单。

化工板块湿电子化学品企业梳理

在国产替代进程加快及技术突破驱动下，湿电子化学品行业进入者逐渐增多，我们 认为对于湿电子化学品行业而言，具有高创新能力、产品品类丰富、产品纯度高的企业 将获得更多市场份额及更高附加值，本报告将从产品布局、研发能力、资金情况和客户 体系 4 个方面分析各公司情况。

（一）江化微：湿电子化学品专业提供商，产品种类丰富

1、产品布局

江化微是国内一家湿电子化学品专业服务提供商，产品品种多达 50 余种，现有产能 9 万吨，在建产能 12.3 万吨，现有品种纯度已经达到 G3 水平，主要应用于光伏、面板 和半导体领域。公司镇江一期在建项目包括剥离液、蚀刻液、稀释剂，纯度已经达到 G3-G4。

江化微光刻胶配套试剂毛利率高于超净高纯试剂，且营收占比从 2012 年 27.5%提升 至 2020 年 43%。受原料涨价和行业价格战影响，超净高纯试剂和光刻胶配套试剂毛利率 均呈现下滑趋势。

江化微有 3 个生产基地，江苏江阴为本部，位于华东地区，主要覆盖半导体、平板 显示、光伏等高、中、低等级系列产品。在建的是江苏镇江和四川眉山基地，江苏镇江 位于华东地区，主要覆盖半导体行业，四川眉山主要是开拓西南地区平板显示行业，预 计两处基地将于 2021 年建成投产，投产后公司运输费用将进一步降低，2020 年起江化 微将执行《企业会计准则第 14 号——收入》，将与商品销售相关的运输费用计入营业成 本。因为湿电子化学品具有高纯度、高洁净度要求，因此运输工具要求和运输成本较高， 随着公司产品体量扩大，2019-2020 年运输费用大幅提升，2020 年相较于 2014 年，运输 费用占营收比例提升 2%，新基地的建设将有效降低运输费用的影响，并扩大客户覆盖面。

2、研发能力

江化微研发能力较好，研发支出相对较高，2020 年占营收比例达到 5.4%，近 5 年保 持 16%增速增长，研发人员数量为 48 人，占比达到 13%。专利方面，截至 2020 年，江 化微共有 83 项专利，包括 32 项发明专利、50 项实用新型专利和 1 项外观设计专利。江 化微与南京大学进行产研合作，接触领域最新前沿理论。董事长殷福华先生拥有 20 余年 的湿电子化学品研究、生产、管理经验，带领公司先后研发出高效酸性剥离液、铝钼蚀 刻液、低温型水系正胶剥离液、低张力 ITO 蚀刻液、高分辨率显影液、二氧化硅蚀刻液、 钛-铝-钛金属层叠膜用蚀刻液等十三类产品，被江苏省科学技术厅评定为高新技术产品。

3、资金情况

江化微从 2017 年开始募资进行产能扩张，资本性支出大幅飙升，增速达到 328.5% 高点，资本支出与折旧摊销比值抬升至接近 10，扩张风格偏向激进，由此带来销售规模 的扩张，2020 年营收为 5.6 亿元，近 3 年营收 CAGR 达 17%。

4、客户体系

江化微湿电子化学品下游在平板显示、半导体及 LED、光伏太阳能三大领域均有涉 及，客户体系较为成熟，覆盖各领域头部厂商。

（二）晶瑞电材：产品研发国内领先，三大王牌产品纯度已达 G5

1、产品布局

晶瑞电材主营产品包括超净高纯试剂、光刻胶、锂电池材料、基础化工材料和能源 等，其中 2020 年超净高纯试剂营收占比为 20%，呈现下滑趋势，毛利率同样逐年下降， 主要是因行业愈趋激烈，公司加大纯度较高电子试剂的研发和投产，以改善毛利率情况。

2020 年，晶瑞电材超净高纯试剂产能共有 3.87 万吨，产能利用率达到 107.55%。其 中用于半导体前道工艺的超净高纯双氧水、超净高纯硫酸、超净高纯氨水纯度可达 G5， 金属杂质含量低于 10ppt,打破国外垄断，其中高纯双氧水既是用量最大的品类，用量占 比达到 16.7%，也是提纯难度最大品类之一，9 万吨超大规模集成电路用半导体级硫酸项 目（一期）预计于 2021 年投产。其他产品如 BOE、硝酸、盐酸、氢氟酸等产品达到 G3、 G4 级别，可用于平板显示、LED、光伏太阳能等行业。

2、研发能力

截至 2021 年 8 月，晶瑞电材拥有研发人员 96 名，研发人员占比保持在 15-20%之间， 2020 年研发支出占比为 3.31%。公司在 2018 年和 2020 年分别进行两次股权激励，2018 年激励包括核心技术骨干在内的 48 名人员 99.7 万股，占比 1.13%，2020 年激励包括核 心技术骨干在内的 28 名人员 322 万股，占比 1.71%，将技术人员和公司利益深度绑定， 彰显公司对未来的发展信心。

3、资金情况

2020 年晶瑞电材资本支出大幅提升，达到 2.44 亿元，增速达 210.4%，主要是因收 购派尔森，拓展锂电池材料应用领域，与湿电子化学品和光刻胶业务形成协同效应。

4、客户体系

高纯半导体用湿电子化学品已进入中芯国际、华虹宏力、长江存储、士兰微等头部 企业客户体系，数十家客户正在认证中。公司主营产品光刻胶与高净纯试剂下游有很大 重叠，同时覆盖半导体和面板行业，具有客户导入优势。

文章来源：未来智库，经伟论，寻材问料，中国消费品质量安全