由于ASML的名气太大，导致业界对于芯片制造的目光都放在了光刻机上，其实芯片制造涉及到诸多设备，而在这些生产环节所涉及的设备当中，其实中国已在部分设备方面居于全球领先地位。

中国在芯片设备方面最先取得突破的是刻蚀机，这种设备中国已经做到5nm工艺，并且用于台积电的生产线当中，可谓是中国技术最先进的芯片设备。

由于中国的刻蚀机已达到全球先进水平，因此刻蚀机也成为芯片设备当中最先被美国放开限制的设备，值得注意的是美国放开限制却是为了让全球刻蚀机企业压制中国企业的发展，由于欧美日的刻蚀机设备技术更成熟、更稳定，因此它们占有更多的市场份额。

中国在清洗机、涂胶显影机、离子注入机等设备方面都已达到14nm级别，目前正在研发7nm、5nm的设备，与世界先进水平的差距也比较小了，并且正处于加速追赶中，与全球先进水平的差距在快速缩短。

可以说在芯片制造的诸多设备当中，中国都已达到较高的水平，目前对芯片制造影响最大的还是光刻机，据称国产光刻机最先进的也只能达到28nm工艺，这已成为中国芯片制造产业链最薄弱的环节，原因在于光刻机是诸多设备当中最复杂的，毕竟ASML的光刻机也是集中欧美日等国先进元件的精华。

中国在芯片设备方面的快速升级，获益于中国拥有最多的人才，据统计数据显示中国从事芯片行业的人才高达60万，这是美国芯片从业人员的两倍多，大量的人才成为中国芯片制造产业链快速推进技术升级的重要原因。

中国人才在数理化方面确实有独特的天赋，这从美国的芯片从业人员当中，技术工程师有很大比例是华裔可以看出来，这种天赋也有助于中国芯片产业链的发展。

其次中国近几年高度重视芯片产业的发展，大举扩张芯片制造产能，短短数年时间就从全球第五提升至第三名，依托于中国这个最大的制造国，芯片产业仍有巨大的发展空间，巨大的发展潜力也成为资金和人才涌入芯片产业链的原因。

再次是中国芯片产业对于赶超欧美的荣誉感，中国传统文化形成的独特性，让诸多中国人即使在海外也依然关注自己祖国的发展，由此许多海外人才宁愿放弃海外的高收入也愿意为国内的芯片产业发展贡献力量，这些拥有技术实力的人才回归祖国对中国芯片的发展起到了巨大的作用，例如创立中芯国际的张汝京、推动中芯国际先进工艺发展的梁孟松等。

在中国诸多行业的共同支持下，以及中国数十万技术人才的努力下，芯片制造的一个个环节将会逐渐打通，笔者相信芯片制造的最后一个环节－－光刻机必然也会在未来数年内得到解决，到那时候我们将形成一条完全独立的芯片产业链，再也不用仰赖西方。